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R6507KND3TL1-HXY实物图
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温馨提醒:图片仅供参考,商品以实物为准

R6507KND3TL1-HXY

碳化硅功率MOSFET N沟道增强模式,采用宽带隙SiC MOSFET技术,内置SiC SBD,低导通电阻、低电容、低反向恢复

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描述
该N沟道碳化硅MOSFET具有800V的漏源击穿电压(VDSS)和10.2A的连续漏极电流(ID),导通电阻(RDS(ON))为550mΩ。其栅源电压范围为-8V至+20V,支持宽范围驱动条件下的可靠运行。碳化硅材料赋予器件优异的高温稳定性和快速开关能力,在高频、高效率的电源拓扑中可有效降低能量损耗,适用于通信电源、数据中心供电系统及可再生能源转换设备等对性能与可靠性要求较高的场合。
商品型号
R6507KND3TL1-HXY
商品编号
C53133896
商品封装
TO-252-2L​
包装方式
编带
商品毛重
0.44克(g)

商品参数

属性参数值
商品目录碳化硅场效应管(MOSFET)
数量1个N沟道
类型N沟道
配置-
漏源电压(Vdss)800V
连续漏极电流(Id)10.2A
耗散功率(Pd)44.4W
属性参数值
阈值电压(Vgs(th))2.6V
栅极电荷量(Qg)6.6nC
输入电容(Ciss)89pF
反向传输电容(Crss)2.3pF
工作温度-55℃~+175℃
输出电容(Coss)19pF
导通电阻(RDS(on))750mΩ

数据手册PDF