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温馨提醒:图片仅供参考,商品以实物为准

FDV304P

1个P沟道 耐压:25V 电流:0.46A

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描述
此 P 沟道增强型场效应晶体管是使用高单元密度的 DMOS 专属技术生产的。这种极高密度工艺特别适用于最大程度降低导通电阻。此器件专为电池电源应用而设计,如笔记本电脑和手机。此器件具有卓越的导通电阻性能,即使在低至 2.5V 的门极驱动电压中亦是如此。
品牌名称
onsemi(安森美)
商品型号
FDV304P
商品编号
C10884
商品封装
SOT-23​
包装方式
编带
商品毛重
0.03克(g)

商品参数

属性参数值
商品目录场效应管(MOSFET)
数量1个P沟道
漏源电压(Vdss)25V
连续漏极电流(Id)460mA
导通电阻(RDS(on))1.5Ω@2.7V
耗散功率(Pd)350mW
属性参数值
阈值电压(Vgs(th))1.5V@250uA
栅极电荷量(Qg)1.1nC@4.5V
输入电容(Ciss)63pF
反向传输电容(Crss)10pF
工作温度-55℃~+150℃
类型P沟道

商品概述

这款P沟道增强型场效应晶体管采用专有的高单元密度DMOS技术制造。这种超高密度工艺旨在将低栅极驱动条件下的导通电阻降至最低。该器件专为笔记本电脑和手机等电池供电应用而设计。即使在低至2.5伏的栅极驱动电压下,该器件也具有出色的导通电阻。

商品特性

  • -25 V,-0.46 A连续电流,-1.5 A峰值电流。
  • 当VGS = -4.5 V时,RDS(ON) = 1.1 Ω
  • 当VGS = -2.7 V时,RDS(ON) = 1.5 Ω。
  • 极低的栅极驱动要求,允许在3V电路中直接运行。VGS(th) < 1.5V。
  • 具备栅源齐纳二极管,增强ESD耐受性。人体模型>6kV
  • 采用紧凑的行业标准SOT-23表面贴装封装。

应用领域

  • 笔记本电脑-手机

数据手册PDF