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P06P03LVG-VB实物图
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温馨提醒:图片仅供参考,商品以实物为准

P06P03LVG-VB

1个P沟道 耐压:30V 电流:5.8A

描述
台积电流片,长电科技封装;是一款单P沟道场效应晶体管,采用Trench工艺,用于对功耗要求较低、信号稳定性要求较高的各种模块和领域,包括但不限于低功耗电源管理、信号放大、逆变器控制和数字电路控制等领域。SOP8;P—Channel沟道,-30V;-5.8A;RDS(ON)=33mΩ@VGS=10V,VGS=20V;Vth=-0.7~-2V;
商品型号
P06P03LVG-VB
商品编号
C5355699
商品封装
SO-8​
包装方式
编带
商品毛重
0.08克(g)

商品参数

属性参数值
商品目录场效应管(MOSFET)
数量1个P沟道
漏源电压(Vdss)30V
连续漏极电流(Id)5.8A
导通电阻(RDS(on))56mΩ@4.5V
属性参数值
耗散功率(Pd)2.5W
阈值电压(Vgs(th))2V
栅极电荷量(Qg)16nC@10V
工作温度-55℃~+150℃
类型P沟道

商品概述

EPC2302是一款最大RDS(on)为1.8 mΩ、耐压100 V的增强型氮化镓(eGaN)功率晶体管,采用低电感3×5 mm QFN封装,顶部外露,散热性能出色。它专为40 V - 60 V的高频DC - DC应用以及48 V无刷直流(BLDC)电机驱动而设计。 该器件到封装顶部的热阻约为0.2 °C/W,散热性能优异,易于散热。它采用了增强型PQFN “Thermal - Max” 封装。外露的顶部增强了顶部散热管理,可焊侧边确保回流焊过程中整个侧边焊盘表面都能被焊料浸润,保护铜层,并允许在此外侧区域进行焊接,便于光学检测。 与硅MOSFET相比,其15 mm²的占位面积不到同类最佳硅MOSFET的一半,且具有相似的Rds(on)和耐压值,QG和QGD显著更小,QRR为0。这使得开关损耗和栅极驱动损耗更低。此外,EPC2302速度极快,死区时间可小于10 ns,从而提高效率,QRR = 0对可靠性和电磁干扰(EMI)控制非常有利。总之,由于效率提高、尺寸减小以及开关频率更高,可使用更小的电感和更少的电容,EPC2302能够实现最高的功率密度。 EPC2302使设计人员能够提高效率并节省空间。出色的散热性能使散热更容易且成本更低。增强型氮化镓场效应晶体管(eGaN FET)的超低电容和零反向恢复特性使其能够在多种拓扑结构中高效运行。小尺寸、低电感的占位面积进一步提升了性能。

商品特性

  • 符合 IEC 61249-2-21 定义的无卤要求
  • 沟槽功率 MOSFET
  • 符合 RoHS 指令 2002/95/EC

应用领域

  • AC - DC充电器、开关电源(SMPS)、适配器、电源
  • 输入高达80 V的高频DC - DC转换(降压、升压、升降压和LLC)
  • 24 V - 60 V电机驱动
  • 40 V - 60 V到5 V - 12 V的高功率密度DC - DC模块
  • 同步整流
  • 太阳能最大功率点跟踪(MPPT)

数据手册PDF