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HGQ065NE4A实物图
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温馨提醒:图片仅供参考,商品以实物为准

HGQ065NE4A

1个N沟道 耐压:45V 电流:60A

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描述
HGQ065NE4A是硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOSFET),采用高密度沟槽技术制造,可降低导通损耗、改善开关性能并增强雪崩能量。该器件适用于作为负载开关和脉宽调制(PWM)应用。其封装形式为PDFN5*6,符合RoHS标准
品牌名称
CRMICRO(华润微)
商品型号
HGQ065NE4A
商品编号
C2856226
商品封装
PDFN5x6-8​
包装方式
编带
商品毛重
0.211克(g)

商品参数

属性参数值
商品目录场效应管(MOSFET)
数量1个N沟道
漏源电压(Vdss)45V
连续漏极电流(Id)60A
导通电阻(RDS(on))6.5mΩ@10V
耗散功率(Pd)39W
阈值电压(Vgs(th))2.5V@250uA
属性参数值
栅极电荷量(Qg)24nC@10V
输入电容(Ciss)1.1556nF
反向传输电容(Crss)31.87pF
工作温度-55℃~+150℃
类型N沟道
输出电容(Coss)493pF

商品概述

AP6800采用先进的沟槽技术,可实现出色的导通电阻RDS(ON)和低栅极电荷。该器件适用于作为负载开关或用于PWM应用。

商品特性

  • 漏源电压VDS = 30V,漏极电流ID = 5.8A
  • 当栅源电压VGS = 4.5V时,导通电阻RDS(ON) < 32mΩ
  • 当栅源电压VGS = 10V时,导通电阻RDS(ON) < 28mΩ
  • 高功率和电流处理能力
  • 符合无铅产品要求
  • 表面贴装封装

应用领域

  • 电池保护-负载开关-电源管理

数据手册PDF